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        鍍鎳工藝
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        B1000滾鍍光亮鎳工藝
        工藝特質:

        1、適合滾、掛鍍。
        2、內應力低,延展性好,顏色潔白,鍍液穩定

        B7000氨基磺酸型鎳電鍍工藝
        工藝特質:

        1、高速氨基磺酸型鎳電鍍工藝。
        2、鎳鍍層應力小,延展性好,極適宜作為貴金屬及普通金屬鍍層的底層。

        100號鍍光亮鎳工藝
        工藝特質:

        1、整平性高,鍍層潔白鏡亮,延展性好。
        2、易套鉻。

        LCD ADDITIVES走位除雜水
        工藝特質:

        1、去除因鋅雜質或銅雜質污染造成的鍍層發黑現象。
        2、可處理鍍液中含鋅,銅分別達300ppm及75ppm。

        B8000耐高溫鎳
        工藝特質:

        1、是一種氨基磺酸型/硫酸性鍍鎳工藝
        2、半光亮鎳鍍層具有極佳的延展性,極適宜作為電子鍍錫層的底層

        85高整平超低應力的半光亮鎳工藝
        工藝特質:

        1.添加劑不含香豆素及醛類,分解產物少。
        2.整平性極佳,柔韌性好,應力極低。

        B2000滾鍍光亮鎳工藝
        工藝特質:

        1、高效能的滾鍍鎳光亮劑。
        2、出光速度快,整平性高,鍍層潔白、鏡亮。

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